美国商务部工业与安全局（以下简称“BIS”）于2024年9月6日发布了一项临时最终规则（Interim Final Rule），实施对量子计算、半导体、增材制造及栅极全环绕场效应晶体管（Gate All-Around Field-Effect Transistor，以下简称“GAAFET”）相关物项和技术的全球范围内的出口管制。
管制范围主要涵盖以下领域：
商务部出口管制助理部长Thea D. Rozman Kendler指出，实施新规则的一个重要原因是“与志同道合的合作伙伴一起制定和协调我管制措施”。这次，BIS主要通过以下方式实施相应规则：
根据《2018年出口管制改革法案》（Export Control Reform Act of 2018）的授权，美国将自己认定为在某些新兴技术和基础技术的领导者。但要保持这一领导地位，需要严格的出口管制以防止敏感技术在未经授权的情况下出口、再出口和在国内转让。临时最终规则特别着重于量子技术和半导体制造的管制，其中量子计算是一个特别关键的重点领域，因为它对于从加密到先进科学研究等各种应用都至关重要。
值得注意的是，临时最终规则引入了新的900系列ECCN，其中最后三位数字为900-970，用于涵盖量子处理器、低温冷却系统和参量信号放大器以及其他量子相关技术。而目前，500系列长期被用于管控ECCN分类为0x5xx的武器和9x515所管控的“航天器”。此外，ECCN 980-989系列在长期以来被一直用于涵盖犯罪控制和短缺供应控制，而990-999系列ECCN被在长期被用于反恐(Anti-Terrorism，简称AT)、区域稳定(Regional Stability，RS)和联合国制裁(United Nations Sanctions，简称UN)的单边管制。
临时最终规则还引入了管制某些半导体技术出口的措施，特别是那些对下一代微芯片的开发至关重要的GAAFET半导体技术。这些芯片有望实现更高效的人工智能（AI）系统、军事应用和其他先进计算系统。
本文的结尾提供了新增的18个ECCN和对9个现有ECCN修订的概要。
新增的900-970系列ECCN物象受控原因是多边国家安全（NS）和区域稳定（RS），该许可证要求指定为“全球范围”。值得注意的是，“全球范围”管控这一术语此前仅在有限情况下得到使用，例如适用于全球范围内“较不敏感的政府最终用户”的与加密技术有关的ENC许可例外（但受AT管制国家除外）。这种全球范围的许可证要求尤其值得注意，因为它延伸到了加拿大（加拿大历来豁免于美国的许多出口管制）以及澳大利亚和英国（BIS最近根据AUKUS安全协议取消了对这两个国家的大部分出口管制）。
具体而言，当ECCN的许可证要求表中的NS许可证要求引用§ 742.4(a)(5)时，临时最终规则出于国家安全原因规定了全球范围的许可证要求，许可证审查政策如下：
自2024年9月6日临时最终规则发布之日起，设有60天过渡期（至2024年11月5日），以便相关方提交许可证申请、满足年度报告要求并调整内部合规程序。
当ECCN的许可证要求表中的RS许可证要求引用§ 742.6(a)(10)时，临时最终规则出于区域稳定原因增加了全球范围的许可证要求，遵循类似的许可证审查政策和60天期限。
临时最终规则的另一个重要特征是引入了前文所提到过的IEC许可例外框架，该框架允许将新受管制物项出口到已建立类似出口管制的所谓“志同道合”的国际伙伴。900系列ECCN下的物项需在全球范围内遵守许可证要求。例如，荷兰和日本此前已与美国一道对先进芯片制造设备实施某些出口限制，因此被认定为相关设备的“合格目的地”。
目前，许可例外IEC适用于在产品范围内（目前包括ECCNs 2B910、2D910、2E903、2E910、3A901、3A904、3B001.c.1.a、3B001.c.1.c、3B001.q、3B903、3B904、3C907、3C908、3C909、3D001（针对3B001.c.1.a、3B001.c.1.c、3B001.q）、3D002（针对3B001.c.1.a、3B001.c.1.c）、3D901、3D907、3E001（针对3B001.c.1.a、3B001.c.1.c、3B001.q）、3E901、3E905、4A906、4D906和4E906）合格物项的出口、再出口或转让（国内）到《出口管理条例》§ 740.24规定的国家范围内的合格目的地。
许可例外IEC合格物项和合格目的地的清单已附在文末，以供参考。该清单也可通过BIS的IEC网站查阅。值得注意的是，许可例外IEC目前仅适用于少数已实施协调一致管制措施的国家。
BIS还在《出口管理条例》（以下简称“EAR”）第736章第1号补充文件的(f)段中增加了第6号通用令，以实施三项授权。
1. 授权的GAAFET相关活动
根据(f)(1)和(f)(2)款的规定，设立了GAAFET通用许可证(以下简称“GL”)，旨在通过与盟国的可信赖伙伴持续合作来促进美国的技术领先地位。这适用于在9月6日或之前已开始的“开发”或“生产”活动。
GL的(f)(1)段允许向EAR第740章第1号补充文件列出的国家组A:5和A:6中的特定最终用户进行出口、再出口和国内转让。然而，GL不包括视同出口和视同再出口，因为根据EAR的§ 742.4(a)(5)和§ 742.6(a)(10)规定，对这些国家的此类出口豁免于NS和RS管制。
2. 祖父条款（即旧例不受新例约束）
在(f)(2)段中，GL允许将ECCN 3E905下的“技术”（包括未来改进或版本）视同出口和视同再出口给截至9月6日已受雇于相关实体的非美国员工或承包商。这些个人必须拥有国家组D:1或D:5中列出国家的国籍或永久居留权，且不得是EAR第744章规定的禁止人员（例如，未被列入实体清单、未经核实清单、军事最终用户清单、或未被列入被拒绝人士清单）。
3. 授权的视同出口量子物项
(f)(3)段将GL扩展到允许某些ECCN中的量子“技术”和“软件”（3D901（针对ECCN 3A901.b、3B904中量子物项的“软件”），3E901（针对3A901、3A904、3B904、3C907、3C908、3C909中量子物项的“技术”），以及ECCN 4D906或4E906中量子物项的“技术”）视同出口或视同再出口给最近国籍或永久居住国是国家组D:1或D:5中指定目的地的非美国人士，并且他们不属于EAR 第744章所禁止的人员。
为加强监管并确保遵守新的限制措施，临时最终规则在EAR的§ 743.7（针对GAAFET通用令）和§ 743.8（针对量子视同出口和视同再出口）对于出口或再出口新受管制的900系列ECCN的公司引入了额外的报告要求。根据新规，适用公司必须提交年度报告，详细说明其量子技术和半导体制造设备的出口情况（包括视同出口）。
与GAAFET通用令相关的报告要求
使用GAAFET通用令对ECCN 3E905规定的“技术”视同出口和视同再出口的公司必须提交年度报告，详细说明通过视同出口方式出口的信息及其接收方。如果公司使用GAAFET通用令向现有员工进行视同出口和视同再出口，还必须在雇佣终止后30天内向BIS报告那些根据GL接收技术、最近国籍或永久居留国为国家组D:1或D:5指定目的地的非美国员工的自愿或非自愿雇佣终止情况。
年度报告必须包含通常包括在视同出口许可申请中的信息，主要涉及技术说明、参与合作的各方，以及最终物项的详细信息（包括已知的ECCN）。当根据GAAFET通用令授权雇佣的非美国人士终止雇佣关系时，需要提交雇佣终止报告，说明他们是离开美国还是在美国境内更换雇主。
量子相关的视同出口和视同再出口报告要求
此外，量子相关的视同出口和视同再出口也需要报告。报告必须包括有关技术或软件、涉及的非美国人士以及最终产品的详细信息。如果有权接触此类量子技术的非美国人士离职或离开学术机构，必须在30天内提交终止报告。报告应提交给BIS，并在主题行注明是量子通用许可证报告。
第一份年度报告必须在2024年11月5日（临时最终规则发布后60天）之前提交，这也是提交征求意见的截至日期，表明各方不应期望此要求会发生重大变化。初始报告必须涵盖2024年9月6日至10月28日期间。随后的报告应在每年2月1日前提交，涵盖前一年的情况（因此，初始年度报告应于2025年2月1日提交，涵盖2024年受该规则管辖的所有活动）。
报告应通过电子邮件提交给BIS，并根据是年度报告还是终止报告注明特定的主题行。未能遵守这些报告要求，或提交虚假或不完整的报告，将构成违反EAR的行为，导致可能包括罚款和其他处罚在内的执法活动。
这次受新规管制的技术对商业和军事应用都至关重要，并因其战略重要性而将受到严格审查。临时最终规则反映了美国政府在平衡技术创新需求与国家安全利益方面的持续努力。通过对半导体、量子技术和先进制造项目实施新的出口管制，美国政府旨在保持其在这些关键领域的领先地位，同时防止外国对手获取敏感技术。临时最终规则强调与国际伙伴的合作，并通过引入IEC框架和详细的报告要求，进一步强化了其对尖端技术出口管制的全面性。
此外，临时最终规则还规定，除非外国投资者符合美国外国投资委员会（Committee on Foreign Investment in the United States，简称CFIUS）法规下的“例外投资者”资格或适用其他豁免，否则在设计、加工、开发、测试、生产或制造新受管制物项的美国公司进行的相关投资均需接受CFIUS的强制审查。
与以往一样，BIS正在对这些新出口管制可能产生的影响征求业界意见，特别是在量子计算和先进半导体相关领域。BIS还邀请相关方就进一步完善IEC框架或将出口管制要求扩展到其他新兴技术的未来监管变化提出反馈意见。
|
ECCN |
Description 描述 |
Control Reason(s) |
|
2B910 |
This ECCN covers additive manufacturing equipment specifically designed to produce metal or metal alloy components. The technology is critical for high-precision military applications, including aircraft and missiles. 该ECCN涵盖专门设计用于生产金属或金属合金部件的增材制造设备。这项技术对于高精度军事应用至关重要，包括飞机和导弹。 |
NS, RS, AT1 |
|
2D910 |
This ECCN includes software specially designed or modified for the development or production of additive manufacturing equipment (2B910). 该ECCN包括为开发或生产增材制造设备（2B910）而特别设计或改装的软件。 |
NS, RS, AT1 |
|
2E903 |
This ECCN covers technology not specified elsewhere, used for the development or production of coating systems. These coatings protect ceramic matrix composite (CMC) materials in gas turbine engines, aircraft, and missiles, focusing on reducing surface erosion during combustion. 该ECCN涵盖未在其他地方规定的、用于开发或生产涂层系统的技术。这些涂层保护燃气涡轮发动机、飞机和导弹中的陶瓷基复合材料（CMC），主要用于减少燃烧过程中的表面侵蚀。 |
NS, RS, AT1 |
|
2E910 |
This ECCN covers technology for the development or production of additive manufacturing equipment (2B910) 该ECCN涵盖用于开发或生产增材制造设备（2B910）的技术。 |
NS, RS, AT1 |
|
3A901 |
This ECCN controls CMOS integrated circuits designed to operate at cryogenic temperatures below 4.5 K (−268.65 °C), often referred to as cryogenic CMOS. This technology is essential for quantum computing, requiring control due to its strategic significance. 该ECCN管制设计用于在4.5 K（−268.65 °C）以下低温环境下运行的CMOS集成电路，通常称为低温CMOS。由于其战略重要性，这项技术对量子计算至关重要，需要管制。 |
NS, RS, AT1 |
|
3A904 |
This ECCN includes cryogenic cooling systems capable of providing a cooling power greater than or equal to 600 µW at temperatures below 0.1 K for extended periods. This technology is vital for scaling quantum computers 该ECCN包括能够在0.1K以下温度长时间提供大于或等于600 µW冷却功率的低温冷却系统。这项技术对于扩展量子计算机至关重要。 |
NS, RS, AT1 |
|
3B903 |
This ECCN covers specialized scanning electron microscopes (SEM) used for imaging semiconductor devices or integrated circuits. These devices are essential for reverse engineering integrated circuits 该ECCN涵盖用于半导体器件或集成电路成像的专用扫描电子显微镜（SEM）。这些设备对于集成电路逆向工程至关重要。 |
NS, RS, AT1 |
|
3B904 |
This ECCN controls cryogenic wafer probing equipment, designed for testing and characterizing qubit devices. Such equipment is critical for scaling quantum computing 该ECCN管制用于测试和表征量子比特器件的低温晶圆探测设备。这种设备对于扩展量子计算至关重要。 |
NS, RS, AT1 |
|
3C907 |
This ECCN includes epitaxial materials consisting of substrates with at least one epitaxially grown layer of silicon or germanium isotopes, key for developing spin-based quantum computers. 该ECCN包括由至少一层外延生长的硅或锗同位素组成的衬底的外延材料，这对开发基于自旋的量子计算机至关重要。 |
NS, RS, AT1 |
|
3C908 |
This ECCN covers fluorides, hydrides, and chlorides of silicon or germanium isotopes, which are key materials for quantum computing technologies. 该ECCN涵盖硅或锗同位素的氟化物、氢化物和氯化物，这些是量子计算技术的关键材料。 |
NS, RS, AT1 |
|
3C909 |
This ECCN controls silicon, silicon oxides, germanium, or germanium oxides, containing specific isotopes crucial for the development of semiconducting qubits in quantum computers. 该ECCN管制含有特定同位素的硅、二氧化硅、锗或二氧化锗，这些材料对于量子计算机中半导体量子比特的开发至关重要。 |
NS, RS, AT1 |
|
3D901 |
This ECCN includes software designed for the development or production of items controlled by 3A901.b, 3B903, and 3B904, all of which are critical to quantum technologies. 该ECCN包括用于“特别设计”或改装由3A901.b、3B903和3B904所管制物项的开发或生产的软件，这些都对量子技术至关重要。 |
NS, RS, AT1 |
|
3D907 |
This ECCN covers software, such as Open Artwork System Interchange Standard, used to extract data and generate multi-layer “GDSII” data or circuit netlists from SEM images, key for reverse engineering integrated circuits. 该ECCN涵盖用于从SEM图像中提取数据并生成多层“GDSII”数据或电路网表的软件，如开放式图形系统交换标准，这对集成电路逆向工程至关重要。 |
NS, RS, AT1 |
|
3E901 |
This ECCN includes technology for the development or production of items in 3A901, 3A904, 3B903, 3B904, 3C907, 3C908, and 3C909, covering a wide range of quantum computing and advanced semiconductor technologies. 该ECCN包括开发或生产3A901、3A904、3B903、3B904、3C907、3C908和3C909中物项的技术，涵盖了广泛的量子计算和先进半导体技术。 |
NS, RS, AT1 |
|
3E905 |
This ECCN focuses on the technology for developing or producing integrated circuits using Gate All-Around Field-Effect Transistor (GAAFET) structures, crucial for advanced AI and military applications. 该ECCN专注于使用栅极全环绕场效应晶体管（GAAFET）结构开发或生产集成电路的技术，这对先进的AI和军事应用至关重要。 |
NS, RS, AT1 |
|
4A906 |
This ECCN covers quantum computers and related electronic assemblies and components, particularly those exceeding thresholds for qubit count and gate error rates, representing high technological sophistication. 该ECCN涵盖量子计算机及相关电子组件和部件，特别是那些超过量子比特数量和门误差率阈值的，代表了高度的技术复杂性。 |
NS, RS, AT1 |
|
4D906 |
This ECCN includes software specifically designed for quantum computers and related equipment under ECCN 4A906. 该ECCN包括专门为ECCN 4A906下的量子计算机和相关设备设计的软件。 |
NS, RS, AT1 |
|
4E906 |
This ECCN controls technology required for the development or production of quantum computers and related components under ECCN 4A906. 该ECCN管制ECCN 4A906下量子计算机和相关组件的开发或生产所需的技术。 |
NS, RS, AT1 |
|
ECCN |
Description 描述 |
|
2E003 |
Amended to include references to 2E903 for technology related to the development or production of coating systems used in high-performance military applications. 修订以包含对2E903的引用，涉及用于开发或生产高性能军事应用的涂层系统的技术。 |
|
3A001 |
Adjustments to control neural network integrated circuits and references to ECCN 3A901 for cryogenic CMOS integrated circuits and parametric signal amplifiers essential for quantum technologies. 调整以管制神经网络集成电路，并引用ECCN 3A901中的低温CMOS集成电路和参量信号放大器，这些对量子技术至关重要。 |
|
3B001 |
Amended to control isotropic and anisotropic dry etching equipment and “EUV” masks and reticles, critical for GAAFET and advanced semiconductor device production. 修订以管制各向同性和各向异性干法刻蚀设备以及“极紫外”（EUV）掩模和光罩，这些对GAAFET和先进半导体器件生产至关重要。 |
|
3C001 |
Now includes references to 3C907, 3C908, and 3C909, controlling isotopically enriched materials for quantum computers. 现包括对3C907、3C908和3C909的引用，管制用于量子计算机的同位素富集材料。 |
|
3D001 |
Revised to cover software specially designed for equipment used in advanced semiconductor manufacturing, including quantum-related technologies. 修订以涵盖专门设计用于先进半导体制造设备的软件，包括量子相关技术。 |
|
3D002 |
Expanded to control software for the use of equipment in advanced semiconductor production, particularly anisotropic dry etching equipment. 扩展以管制用于先进半导体生产设备的软件，特别是各向异性干法刻蚀设备。 |
|
3E001 |
Modified to include references to newly added ECCNs for cryogenic CMOS, quantum-related technologies, and semiconductor manufacturing. 修改以包含对新增ECCN的引用，涉及低温CMOS、量子相关技术和半导体制造。 |
|
4D001 |
Now includes controls on software for the development or production of semiconductor devices, including those using GAAFET technology. 现包括对半导体器件开发或生产软件的管制，包括使用GAAFET技术的器件。 |
|
4E001 |
Amended to control technology for semiconductor devices using advanced architectures such as GAAFET. 修订以管制使用先进架构（如GAAFET）的半导体器件技术。 |
下表信息源自BIS发布的数据，并经本文作者修改。
|
LICENSE EXCEPTION IMPLEMENTED EXPORT CONTROLS (IEC) ELIGIBLE ITEMS AND DESTINATIONS 许可例外“已实施出口管制”（IEC）合格物项及合格目的地
This table lists ECCNs and destinations authorized for export, reexport, and transfer (in-country) pursuant to License Exception Implemented Export Controls (IEC) in § 740.24 of the EAR. 本表列出了根据EAR§ 740.24的许可例外“已实施出口管制”（IEC）授权出口、再出口和转让（国内）的ECCN和目的地。 |
||
|
ECCN |
Eligible Destinations 合格目的地 |
Eligibility Date
|
|
2B910 |
ITALY, UNITED KINGDOM, UNITED STATES 意大利、英国、美国 |
9/6/2024 |
|
2D910 |
ITALY, UNITED KINGDOM, UNITED STATES 意大利、英国、美国 |
9/6/2024 |
|
2E903 |
ITALY, UNITED KINGDOM, UNITED STATES 意大利、英国、美国 |
9/6/2024 |
|
2E910 |
ITALY, UNITED KINGDOM, UNITED STATES 意大利、英国、美国 |
9/6/2024 |
|
3A901 |
AUSTRALIA (3A901.a only), CANADA, FRANCE– (for 3A901.a only), GERMANY –(for 3A901, a and b.13 only), ITALY, UNITED KINGDOM, UNITED STATES 澳大利亚（仅3A901.a）、加拿大、法国（仅3A901.a）、德国（仅3A901.a和b.13）、意大利、英国、美国 |
9/6/2024 |
|
3A904 |
GERMANY, ITALY, UNITED KINGDOM, UNITED STATES 德国、意大利、英国、美国 |
9/6/2024 |
|
3B001.c.1.a |
AUSTRALIA, GERMANY, CANADA, FRANCE, ITALY, JAPAN, SPAIN, UNITED KINGDOM, UNITED STATES 澳大利亚、德国、加拿大、法国、意大利、日本、西班牙、英国、美国 |
9/6/2024 |
|
3B001.c.1.c |
AUSTRALIA, GERMANY, CANADA, FRANCE, ITALY, JAPAN, SPAIN, UNITED KINGDOM, UNITED STATES 澳大利亚、德国、加拿大、法国、意大利、日本、西班牙、英国、美国 |
9/6/2024 |
|
3B001.q |
ITALY, UNITED KINGDOM, UNITED STATES 意大利、英国、美国 |
9/6/2024 |
|
3B903 |
AUSTRALIA, CANADA, FRANCE, GERMANY, ITALY, SPAIN, UNITED KINGDOM, UNITED STATES 澳大利亚、加拿大、法国、德国、意大利、西班牙、英国、美国 |
9/6/2024 |
|
3B904 |
GERMANY, ITALY, UNITED KINGDOM, UNITED STATES 德国、意大利、英国、美国 |
9/6/2024 |
|
3C907 |
ITALY, UNITED KINGDOM, UNITED STATES 意大利、英国、美国 |
9/6/2024 |
|
3C908 |
ITALY, UNITED KINGDOM, UNITED STATES 意大利、英国、美国 |
9/6/2024 |
|
3C909 |
ITALY, UNITED KINGDOM, UNITED STATES 意大利、英国、美国 |
9/6/2024 |
|
3D001 (for 3B001.c.1.a, 3B001.c.1.c, 3B001.q)
3D001（针对3B001.c.1.a, 3B001.c.1.c, 3B001.q） |
JAPAN (for 3B001.c.1.a and c.1.c only), GERMANY, ITALY, UNITED KINGDOM, UNITED STATES 日本（仅3B001.c.1.a和c.1.c）、德国、意大利、英国、美国 |
9/6/2024 |
|
3D002 (for 3B001.c.1.a or 3B001.c.1.c)
3D002 (针对 3B001.c.1.a 或 3B001.c.1.c) |
AUSTRALIA, JAPAN (for 3B001.c.1.a and c.1.c only), CANADA, FRANCE, GERMANY, ITALY, SPAIN, UNITED KINGDOM, UNITED STATES
澳大利亚、日本（仅3B001.c.1.a和c.1.c）、加拿大、法国、德国、意大利、西班牙、英国、美国 |
9/6/2024 |
|
3D901 |
AUSTRALIA (for 3B903 only), GERMANY, ITALY, UNITED KINGDOM, UNITED STATES 澳大利亚（仅3B903）、德国、意大利、英国、美国 |
9/6/2024 |
|
3D907 |
AUSTRALIA, CANADA, FRANCE, GERMANY, ITALY, SPAIN, UNITED KINGDOM, UNITED STATES 澳大利亚、加拿大、法国、德国、意大利、西班牙、英国、美国 |
9/6/2024 |
|
3E001 (for 3B001.c.1.a, 3B001.c.1.c, 3B001.q) 3E001 (针对3B001.c.1.a, 3B001.c.1.c, 3B001.q)
|
AUSTRALIA (for 3B001.c.1.a or c.1.c only), CANADA, FRANCE (for 3B001.c.1.a or c.1.c only), ITALY, UNITED KINGDOM, UNITED STATES 澳大利亚（仅3B001.c.1.a或c.1.c）、加拿大、法国（仅3B001.c.1.a或c.1.c）、意大利、英国、美国 |
9/6/2024 |
|
3E901 |
AUSTRALIA (for 3A901.a and 3B903 only), CANADA, FRANCE, GERMANY (only for 3A901.a.1), SPAIN (only for 3B903), ITALY, UNITED KINGDOM, UNITED STATES 澳大利亚（仅3A901.a和3B903）、加拿大、法国、德国（仅3A901.a.1）、西班牙（仅3B903）、意大利、英国、美国
|
9/6/2024 |
|
3E905 |
AUSTRALIA, CANADA, FRANCE, GERMANY, ITALY, SPAIN, UNITED KINGDOM, UNITED STATES 澳大利亚、加拿大、法国、德国、意大利、西班牙、英国、美国 |
9/6/2024 |
|
4A906 |
AUSTRALIA, CANADA, FRANCE, GERMANY, ITALY, SPAIN, UNITED KINGDOM, UNITED STATES 澳大利亚、加拿大、法国、德国、意大利、西班牙、英国、美国 |
9/6/2024 |
|
4D906 |
AUSTRALIA, CANADA, FRANCE, GERMANY, ITALY, UNITED KINGDOM, UNITED STATES 澳大利亚、加拿大、法国、德国、意大利、英国、美国 |
9/6/2024 |
|
4E906 |
AUSTRALIA, CANADA, FRANCE, GERMANY, SPAIN (only for 4A906), ITALY, UNITED KINGDOM, UNITED STATES 澳大利亚、加拿大、法国、德国、西班牙（仅4A906）、意大利、英国、美国 |
9/6/2024 |
If you have any questions or would like more information on the issues discussed in this LawFlash, please contact any of the following:
[1] License Exception Implemented Export Controls (IEC) Eligible Items and Destinations, US Department of Commerce, Bureau of Industry and Security (Sept. 5, 2024).